| 三氟化氮（NF3）是一種無色、無味的氣體，在半導體制造、平板顯示器和光伏產業中作為蝕刻劑和清洗劑廣泛使用。它的高氧化性和穩定性使其在這些應用中表現出優異的性能。然而，NF3是一種強溫室氣體，其溫室效應潛能遠高于二氧化碳，因此其排放控制和替代品的開發成為環境保護的重要議題。 | |
| 未來，NF3的使用將受到更加嚴格的環保法規約束，推動行業尋求更環保的替代方案。例如，研究和開發低溫室效應的蝕刻氣體，或改進蝕刻工藝以減少NF3的消耗量，將是行業努力的方向。同時，NF3的回收和再利用技術將得到重視，通過高效的回收系統減少排放，實現資源的循環利用。此外，隨著綠色化學和可持續制造的理念深入人心，行業將探索NF3在其他領域的新應用，如新型電池材料的合成，拓寬其應用范圍的同時減少環境負擔。 | |
| 《中國三氟化氮（NF3）市場調查研究與發展趨勢預測報告（2025-2031年）》基于科學的市場調研與數據分析，全面解析了三氟化氮（NF3）行業的市場規模、市場需求及發展現狀。報告深入探討了三氟化氮（NF3）產業鏈結構、細分市場特點及技術發展方向，并結合宏觀經濟環境與消費者需求變化，對三氟化氮（NF3）行業前景與未來趨勢進行了科學預測，揭示了潛在增長空間。通過對三氟化氮（NF3）重點企業的深入研究，報告評估了主要品牌的市場競爭地位及行業集中度演變，為投資者、企業決策者及銀行信貸部門提供了權威的市場洞察與決策支持，助力把握行業機遇，優化戰略布局，實現可持續發展。 | |
第一章 三氟化氮產品概述 |
產 |
1.1 電子特種氣體——三氟化氮概述 |
業 |
1.2 三氟化氮的產業與市場簡述 |
調 |
| 1.2.1 三氟化氮的應用領域 | 研 |
| 1.2.2 三氟化氮的市場簡況 | 網 |
| 1.2.3 三氟化氮的產業簡況 | ｗ |
1.3 三氟化氮行業的特點 |
ｗ |
| 1.3.1 行業興衰與半導體、光伏、液晶顯示產業發展有著關系密切 | ｗ |
| 1.3.2 三氟化氮產品優勢得到發揮 | ． |
| 1.3.3 市場壟斷性強 | Ｃ |
| 1.3.4 近年全球三氟化氮應用市場在迅速擴大 | ｉ |
1.4 在當前環境保護要求的形勢變化下三氟化氮產品發展前景成為變數 |
ｒ |
| 1.4.1 三氟化氮成為氣候變化新威脅UNFCC已將其列入“監管”氣體之中 | ． |
| 1.4.2 三氟化氮替代產品得到發展 | ｃ |
第二章 電子特種氣體、氟化工品應用市場 |
ｎ |
2.1 電子特種氣體概述 |
中 |
2.2 電子特種氣體制造中的主要技術方面 |
智 |
2.3 電子特種氣體的純凈度要求 |
林 |
2.4 電子特種氣體產品市場競爭的焦點問題 |
４ |
| 全^文：http://www.5269660.cn/R_ShiYouHuaGong/08/SanFuHuaDanNF3FaZhanQuShiYuCeFenXi.html | |
| 2.4.1 對電子特種氣體雜質、純度要求的問題 | ０ |
| 2.4.2 氣體配送及供應問題 | ０ |
| 2.4.3 儲存、使用中的安全性問題 | ６ |
| 2.4.4 成本性問題 | １ |
2.5 國內外電子特種氣體行業發展概述 |
２ |
| 2.5.1 境外電子特種氣體生產與市場情況 | ８ |
| 2.5.2 國內電子特種氣體行業及其發展 | ６ |
2.6 氟化工產業概述 |
６ |
| 2.6.1 氟化工產業中的重要產品 | ８ |
| 2.6.2 我國氟化工產業發展情況 | 產 |
第三章 三氟化氮的主要特性 |
業 |
3.1 物理特性 |
調 |
3.2 毒性及危險性 |
研 |
3.3 反應性 |
網 |
3.4 相關的安全性 |
ｗ |
3.5 主要性能及標準 |
ｗ |
| 3.5.1 對純度的一般質量指標要求 | ｗ |
| 3.5.2 美國氣體及化學產品公司的NF3的工業標準及產品不同等級標準要求 | ． |
| 3.5.3 SEMI的三氟化氮標準 | Ｃ |
| 3.5.4 三氟化氮 我國國家標準（GB/T 21287-） | ｉ |
第四章 三氟化氮的主要生產工藝方法 |
ｒ |
4.1 NF3的制備方法 |
． |
| 4.1.1 概述 | ｃ |
| 4.1.2 直接化合法 | ｎ |
| 4.1.3 氟和氟化氫銨法 | 中 |
| 4.1.5 電解法 | 智 |
4.2 NF3粗品純化工藝加工 |
林 |
| 4.2.1 NF3粗品純化工藝法的種類 | ４ |
| 4.2.2 低溫精餾法 | ０ |
| 4.2.3 化學吸收法 | ０ |
| 4.2.4 化學轉化法 | ６ |
| 4.2.5 選擇吸附法 | １ |
4.3 安全生產的問題 |
２ |
4.4 在半導體晶元工廠的供應系統 |
８ |
第五章 三氟化氮的主要應用領域概述 |
６ |
5.1 概述 |
６ |
5.2 三氟化氮在集成電路中的應用 |
８ |
| 5.2.1 集成電路芯片制程 | 產 |
| 5.2.2 化學氣相沉積和氣體應用 | 業 |
5.3 作為清洗劑、刻蝕劑在半導體制造中的應用 |
調 |
| 5.3.1 替代PFC作為清洗劑 | 研 |
| 5.3.2 等離子增強化學氣相沉積（PECVD） | 網 |
| 5.3.3 在PECVD的干刻蝕、清洗加工中的應用 | ｗ |
5.3 三氟化氮在液晶顯示器中的應用 |
ｗ |
| Market Survey Research and Development Trends Forecast Report of China Nitrogen Trifluoride (NF3) (2025-2031) | |
5.4 高純NF3在薄膜硅太陽電池中的應用 |
ｗ |
| 5.4.1 非晶硅薄膜太陽能電池 | ． |
| 5.4.2 Si薄膜的材料特性 | Ｃ |
| 5.4.3 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝及高純硅烷其應用 | ｉ |
5.5 用三氟化氮作氟化劑 |
ｒ |
| 5.5.1 六氟化鎢的理化性質及用途 | ． |
| 5.5.2 NF3是制造WF6 | ｃ |
| 5.5.3 世界WF6 的生產現況 | ｎ |
| 5.5.4 國內生產WF6的情況 | 中 |
5.6 三氟化氮作為氟源在化學激光器中應用 |
智 |
5.7 NF3在IC和TFT-LCD應用市場擴展的三階段 |
林 |
5.8 NF3在不同應用領域中應用量的比例 |
４ |
第六章 世界及我國NF3的半導體市場調查與分析 |
０ |
6.1 世界半導體硅片生產與市場發展 |
０ |
| 6.1.1 世界半導體生產的現況 | ６ |
| 6.1.2 世界半導體硅片的生產情況分析 | １ |
6.2 我國半導體晶圓生產與市場現況與發展 |
２ |
| 6.2.1 我國集成電路市場、產業發展現狀 | ８ |
| 6.2.2 我國集成電路晶圓制造業情況 | ６ |
| 6.2.3 我國集成電路晶圓主要生產廠家情況 | ６ |
第七章 世界及我國NF3的液晶顯示器市場調查與分析 |
８ |
7.1 世界平板顯示器產業發展現況 |
產 |
7.2 我國平板顯示器產業現況與未來發展預測分析 |
業 |
| 7.2.1 我國液晶顯示產業發展概述 | 調 |
| 7.2.2 我國LCD面板生產現況與未來幾年發展預測分析 | 研 |
| 7.2.3 我國發展平板顯示產業的相關政策及未來發展的預測、分析 | 網 |
第八章 世界及我國NF3的薄膜硅太陽電池市場調查與分析 |
ｗ |
8.1 國內外光伏產業的發展 |
ｗ |
| 8.1.1 世界光伏產業的快速發展 | ｗ |
| 8.1.2 我國光伏產業發展環境與現況 | ． |
8.2 薄膜太陽能電池的生產與市場 |
Ｃ |
| 8.2.1 薄膜太陽能電池特點及品種 | ｉ |
| 8.2.2 薄膜太陽能電池未來市場發展前景 | ｒ |
| 8.2.3 薄膜太陽能電池生產及在光伏市場上的份額變化 | ． |
8.3 國內外薄膜太陽能電池的主要生產企業 |
ｃ |
| 8.3.1 境外薄膜太陽能電池生產廠家概況 | ｎ |
| 8.3.2 國內薄膜太陽能電池生產廠家概況 | 中 |
第九章 世界NF3的生產現狀與發展 |
智 |
9.1 概述 |
林 |
9.2 世界三氟化氮生產現況 |
４ |
9.3 美國的NF3生產現狀與廠家 |
０ |
| 9.3.1 美國AP公司 | ０ |
| 9.3.2 杜邦公司 | ６ |
9.4 日本的NF3生產現狀與廠家 |
１ |
| 中國三氟化氮（NF3）市場調查研究與發展趨勢預測報告（2025-2031年） | |
| 9.4.1 關東電化工業公司 | ２ |
| 9.4.2 三井化學公司 | ８ |
| 9.4.3 中央玻璃公司 | ６ |
9.5 韓國的NF3生產現狀與廠家 |
６ |
| 9.5.1 AP公司韓國蔚山分廠 | ８ |
| 9.5.2 韓國SODIFF新素材有限公司 | 產 |
9.6 中國臺灣的NF3生產現狀與廠家 |
業 |
第十章 中-智林-－我國國內NF3的生產現狀與發展 |
調 |
10.1 國內NF3生產的發展 |
研 |
10.2 國內NF3生產需求市場 |
網 |
10.3 國內NF3的主要生產廠家 |
ｗ |
| 10.3.1 國內NF3的生產廠家概述 | ｗ |
| 10.3.2 中核紅華特種氣體股份有限公司 | ｗ |
| 10.3.3 湖北沙隆達天門農化有限責任公司 | ． |
| 10.3.4 中國船舶重工集團第七一八研究所 | Ｃ |
| 10.3.5 其它廠家 | ｉ |
10.4 國內與NF3氣體相關的科研、協會機構 |
ｒ |
| 附件：中華人民共和國國家標準：《電子工業用三氟化氮 》（GB/T21287-） | ． |
| 圖表目錄 | ｃ |
| 圖2-1 半導體制造業用特種氣體按其使用時的特性分類情況 | ｎ |
| 圖2-2 全球半導體工業用主要幾種高純度氣體的市場規模變化情況 | 中 |
| 圖2-3 氟化工產業鏈的構成情況 | 智 |
| 圖3-1 NF3分子結構圖 | 林 |
| 圖3-2 SEMI標準中NF3中 CF4、CO2、N2O、SF6和 CO 的分析流程圖 | ４ |
| 圖4-1 氣-固反應器圖 | ０ |
| 圖4-2 氣-液反應器圖 | ０ |
| 圖4-3 氣-液反應法的生產流程圖 | ６ |
| 圖4-4 電解槽結構圖 | １ |
| 圖4-5 低溫精餾過程示意圖 | ２ |
| 圖4-6 色譜分離氣體流程圖 | ８ |
| 圖4-7 典型半導體晶元工廠的特氣供應系統流程圖 | ６ |
| 圖5-1 三氟化氮的主要應用領域 | ６ |
| 圖5-2 IC硅片制造前工程的過程 | ８ |
| 圖5-3 各種CVD法反應裝置的原理 | 產 |
| 圖5-4 PECVD裝置 | 業 |
| 圖5-5 三氟化氮在半導體芯片加工制造環節中的應用示意圖 | 調 |
| 圖5-6 TFT 陣列構成 | 研 |
| 圖5-7 等離子體CVD加工工序及SiH4等電子特氣的供應系統 | 網 |
| 圖5-8 所示了采用等離子體CVD法制作TFT陣列的實際裝備例 | ｗ |
| 圖5-9 TFT 陣列形成過程及NF3在采用等離子體CVD法形成TFT 陣列形成中作用 | ｗ |
| 圖5-10 Si基薄膜的種類、特征及晶體結構 | ｗ |
| 圖5-11 Si基薄膜太陽能電池的基本結構 | ． |
| 圖5-12 非晶硅薄膜太陽能電池制作工藝過程 | Ｃ |
| 圖5-13 NF3不同應用領域中應用量的比例 | ｉ |
| zhōngguó sān fú huà dàn (NF3) shìchǎng diàochá yánjiū yǔ fāzhǎn qūshì yùcè bàogào （2025-2031 nián） | |
| 圖6-1 2025-2031年全球半導體市場規模和年增幅統計預測分析 | ｒ |
| 圖6-2 世界不同直徑尺寸硅片市場發展趨勢 | ． |
| 圖6-3 2025-2031年全球硅片出貨量變化率 | ｃ |
| 圖6-4 2025-2031年全球硅片銷售收入變化率 | ｎ |
| 圖6-5 全球硅片出貨量按尺寸計預測分析 | 中 |
| 圖6-6 2025-2031年我國半導體及集成電路產銷情況 | 智 |
| 圖6-7 2025-2031年我國集成電路晶圓業發展規模 | 林 |
| 圖6-8 我國主要集成電路晶圓的生產廠家分布情況 | ４ |
| 圖7-1 2025-2031年世界液晶顯示器面板出貨量統計及預測分析 | ０ |
| 圖7-2 2025-2031年平板電視在世界主要國家、地區的普及情況 | ０ |
| 圖7-3 2025-2031年我國LCD面板的市場規模統計、預測分析 | ６ |
| 圖7-4 我國TFT-LCD面板的產能統計及未來幾年發展預測分析 | １ |
| 圖7-5 2025-2031年我國TFT-LCD面板各代線在國內總產能的比例變化 | ２ |
| 圖7-6 我國主要集成電路晶圓生產廠家分布情況 | ８ |
| 圖8-1 全球光伏市場構成 | ６ |
| 圖8-2 2025-2031年全球及我國光伏市場規模變化 | ６ |
| 圖8-3 2025年全球各主要國家及地區光伏發電安裝量的份額 | ８ |
| 圖8-4 2025年全球主要電池組件企業市場份額分布情況 | 產 |
| 圖8-5 2025-2031年中國太陽能電池出貨量 | 業 |
| 圖8-6 2025-2031年中國太陽能電池產量的統計及預測分析 | 調 |
| 圖8-7 2025-2031年世界薄膜太陽能電池產能統計及預測分析 | 研 |
| 圖8-8 2025-2031年世界薄膜太陽能電池產量統計及預測分析 | 網 |
| 圖9-1 世界NF3實際生產量及生產能力的統計 | ｗ |
| 圖9-2 世界NF3實際生產量及生產能力年增長率變化 | ｗ |
| 圖9-3 世界主要生產企業NF3產品的市場份額 | ｗ |
| 圖9-4 世界NF3主要國家、地區的生產產能及產能占世界總產能比例 | ． |
| 圖9-5 日本的NF3實際產量（國內部分）統計 | Ｃ |
| 圖10-1 我國NF3氣體市場需求量的統計及預測分析 | ｉ |
| 表2-1 電子特種氣體的主要品種及分類 | ｒ |
| 表2-2 常見的電子特種氣體不同純度要求的分類 | ． |
| 表2-3 國外主要大型電子特氣企業在主導生產工藝路線及所達到純度的情況 | ｃ |
| 表3-1 NF3物理性質 | ｎ |
| 表3-2 4N高純NF3的主要質量指標要求 | 中 |
| 表3-3 AP公司的NF3的工業標準 | 智 |
| 表3-4 AP公司四個等級的NF3技術標準指標要求 | 林 |
| 表3-5 SEMI標準中規定的NF3的物理常數值 | ４ |
| 表3-6 SEMI標準中的技術要求和化學技術要求 | ０ |
| 表3-7 三氟化氮國標標準（GB/T 21287-）的情況 | ０ |
| 表3-8 GB/T 21287-中規定的三氟化氮的技術指標 | ６ |
| 表3-9 GB/T 21287-中的三氟化氮的主要物理參數 | １ |
| 表4-1 NF3的各種制備方法及其采用主要生產廠家 | ２ |
| 表6-1 2025年世界主要大型半導體廠家的銷售收入統計 | ８ |
| 表6-2 2025-2031年世界硅片出貨量及銷售收入情況 | ６ |
| 表6-3 SEMI對世界硅片的出貨量的統計及預測分析 | ６ |
| 中國の三フッ化窒素（NF3）市場調査研究と発展傾向予測レポート（2025年-2031年） | |
| 表6-4 硅片尺寸﹑質量要求與所對應的集成電路工藝技術的發展 | ８ |
| 表6-6 2025-2031年我國國內半導體級晶圓產量變化統計 | 產 |
| 表6-7 我國集成電路晶圓制造業在半導體產業中占有的比重情況 | 業 |
| 表6-8 2025-2031年我國晶圓生產線建線增長情況 | 調 |
| 表6-9 我國集成電路晶圓制造6英寸以上生產線產能和工藝技術水平情況 | 研 |
| 表6-10 至2024年底我國主要集成電路晶圓的生產廠家產能情況 | 網 |
| 表7-1 LCD中下游市場的劃分 | ｗ |
| 表7-2 全球平板顯示器在不同應用的需求市場的規模 | ｗ |
| 表7-3 全世界G5以上TFT-LCD產能比較 | ｗ |
| 表7-4 我國TFT-LCD液晶面板線分布 | ． |
| 表7-5 我國主要集成電路晶圓的生產廠家產能情況（至2024年底） | Ｃ |
| 表8-1 2025年全球各主要國家及地區光伏發電安裝量統計 | ｉ |
| 表8-2 2025年全球主要電池組件企業產能產量情況 | ｒ |
| 表8-3 2025-2031年我國太陽能電池出口情況 | ． |
| 表8-4 2025-2031年我國太陽能電池進口情況 | ｃ |
| 表8-5 近幾年全球薄膜太陽能電池產量及市場份額 | ｎ |
| 表8-6 國外主要薄膜太陽能電池生產廠家 | 中 |
| 表8-7 境外薄膜太陽能電池生產廠家情況 | 智 |
| 表8-8 我國國內薄膜太陽能電池生產廠家的情況 | 林 |
| 表9-1 世界NF3主要生產企業的產能、產量情況 | ４ |
| 表10-1 國內三氟化氮主要生產企業及產能情況（以2025年為計） | ０ |
| 表10-2 在我國國內與NF3氣體業相關的協會機構 | ０ |
| 表10-3 我國開展過對NF3氣體研究的相關科研單位 | ６ |
http://www.5269660.cn/R_ShiYouHuaGong/08/SanFuHuaDanNF3FaZhanQuShiYuCeFenXi.html
略……
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